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紫外激光直寫光刻機(jī)設(shè)備具備優(yōu)異的微納精密圖形加工性能，可實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)成像分辨率與高精度運(yùn)動(dòng)定位，融合大面積高效加工與超高加工精度雙重優(yōu)勢(shì)。主要應(yīng)用于微型顯示芯片光電元器件研發(fā)、鈣鈦礦等環(huán)境敏感型新材料研發(fā)測(cè)試領(lǐng)域，憑借超小型一體化結(jié)構(gòu)，可靈活部署于手套箱內(nèi)，滿足惰性保護(hù)氣氛下的加工與實(shí)驗(yàn)需求。

無(wú)掩膜光刻機(jī)UTA系列是將DLP投影儀盒金相顯微鏡相結(jié)合的縮小投影型無(wú)掩模曝光系統(tǒng)，其傳統(tǒng)系統(tǒng)（用于掩膜光刻的圖案投影曝光系統(tǒng)） 可以使用專門為此目的開發(fā)的軟件來(lái)創(chuàng)建想要的圖案。

無(wú)掩模紫外激光直寫系統(tǒng)可用于微納結(jié)構(gòu)的高精度圖形加工，實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)分辨率與高精度定位能力。兼具大面積圖形加工能力與亞微米級(jí)精度保證。應(yīng)用于微型顯示芯片等光電器件的研發(fā)，以及鈣鈦礦等氛圍敏感材料的測(cè)試場(chǎng)景，其超緊湊體積可實(shí)現(xiàn)手套箱恒定氛圍內(nèi)使用。