無掩模紫外激光直寫系統(tǒng)可用于微納結(jié)構(gòu)的高精度圖形加工，實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)分辨率與高精度定位能力。兼具大面積圖形加工能力與亞微米級(jí)精度保證。應(yīng)用于微型顯示芯片等光電器件的研發(fā)，以及鈣鈦礦等氛圍敏感材料的測(cè)試場(chǎng)景，其超緊湊體積可實(shí)現(xiàn)手套箱恒定氛圍內(nèi)使用。

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更新時(shí)間：2026-05-25

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產(chǎn)品分類

PRODUCT CLASSIFICATION

無掩模光刻系統(tǒng)

無掩模光刻機(jī)

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產(chǎn)品介紹

品牌	其他品牌	線寬	0.25um
打印速率	18 mm2/h	樣品臺(tái)XY雙向重復(fù)定位精度	≤ 120 nm
小移動(dòng)步距	≤ 50 nm	相鄰曝光區(qū)域拼接	≤ 150 nm

無掩模紫外激光直寫系統(tǒng)

該系統(tǒng)可用于微納結(jié)構(gòu)的高精度圖形加工，實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)分辨率與高精度定位能力。兼具大面積圖形加工能力與亞微米級(jí)精度保證。應(yīng)用于微型顯示芯片等光電器件的研發(fā)，以及鈣鈦礦等氛圍敏感材料的測(cè)試場(chǎng)景，其超緊湊體積可實(shí)現(xiàn)手套箱恒定氛圍內(nèi)使用。

無掩模紫外激光直寫系統(tǒng)主要特點(diǎn)

通過專用軟件完成微納結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)，系統(tǒng)自動(dòng)將圖形數(shù)據(jù)轉(zhuǎn)換為控制指令，簡(jiǎn)化打印流程。

紫外激光束經(jīng)聲光調(diào)制器和高精度振鏡系統(tǒng)協(xié)同調(diào)制，通過高數(shù)值孔徑(NA)物鏡精準(zhǔn)聚焦至光刻膠表面，確保曝光質(zhì)量。

激光束沿預(yù)設(shè)路徑執(zhí)行高速、高精度的逐點(diǎn)掃描曝光，實(shí)現(xiàn)亞微米級(jí)分辨率的穩(wěn)定控制。

設(shè)備體積小巧，可靈活置入手套箱內(nèi)，在恒定氛圍環(huán)境中穩(wěn)定運(yùn)行，滿足鈣礦等氛圍敏感材料的研發(fā)與測(cè)試需求。

規(guī)格參數(shù)

打印參數(shù)
參數(shù)項(xiàng)	核心指標(biāo)
最小特征尺寸XY	250 nm
最小等間距線柵	560 nm
打印速率	18 mm2/h
曝光面積	≥ 0.25 mm × 0.25 mm (單次加工范圍，支持拼接實(shí)現(xiàn)更大圖形)
相鄰曝光區(qū)域拼接	≤ 150 nm

系統(tǒng)參數(shù)
參數(shù)項(xiàng)	核心指標(biāo)
樣品臺(tái)XY雙向重復(fù)定位精度	≤ 120 nm
最小移動(dòng)步距	≤ 50 nm
打印范圍(XY)	48 × 48 mm2
基底類型	載玻片/圓晶片
基片厚度	0 – 4.5 mm
樣品尺寸	5 × 5 mm2 to 48 × 48 mm2 (可按需求定制)
隔振(可選)	平臺(tái)尺寸 ≥ 400 × 30 mm；帶寬1~200 Hz 效率 >90% @ 5 Hz，90%~99% @10 Hz
光源	405 nm
長(zhǎng) × 寬 × 高 (僅限光刻單元)	463 × 160 × 535 mm3
重量 (僅限光刻單元)	12 kg(背包級(jí))
供電	230 VAC ±5 %，50/60 Hz, 16 A