無掩膜光刻機裝置概述：

• 顯微鏡LED曝光單元UTA系列是不需要掩模的用于光刻的圖案投影曝光裝置。

• 使用金相顯微鏡盒LED光源DLP投影儀，將具有機微米分辨率的任意圖案投影到涂有抗蝕劑的基板上進行曝光。

• 圖案可以在PC上自由創(chuàng)建。

• 因為可以在普通的室內(nèi)環(huán)境中在各種大小盒形狀的單晶薄片上形成電極，所以它比電子束光刻便宜且簡單，不需要制造昂貴的電極圖案掩膜。

無掩膜光刻機應(yīng)用：

• 薄膜FET和霍爾效應(yīng)測量樣品的電極形成。

• 從石墨烯/鉬原石中剝離電極形成并評估其特性。

• 研發(fā)應(yīng)用的圖案形成。

參數(shù)：

• 由于顯微鏡和DLP的結(jié)合，可以用很低的成本來構(gòu)建系統(tǒng)。

• 易于使用的軟件可以輕松的創(chuàng)建曝光圖案。

• 通過物鏡放大倍率圖案，可以進行大范圍的批量曝光。

• 可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）。

• 分辨率在微米級。

• 曝光范圍：大2.5mm×1.5mm   小100um×60um。

• 可以連接到您自己的顯微鏡上（選項）。

• 分辨率在微米級。

• 曝光范圍：大2.5mm×1.5mm  小100um×60um。