ME-210-T膜厚測量儀適用透明基板的高速Mapping橢偏儀，可測量透明基板上的光阻膜及配向膜分布。

橢偏儀為一種光學(xué)系膜厚測量裝置，膜厚測量儀這個裝置的特點是可以高精度測量1nm一下的極薄膜，也適合測量玻璃等透明基板上的薄膜。

ME-210-T膜厚測量儀用了本公司*的偏光Senor 技術(shù)，將不能變?yōu)榭赡?，以往的技術(shù)是無法測量0.5mm厚的玻璃基板，在這項技術(shù)下，可進行極薄膜的高精度測量，舉例來說顯示器用的ITO膜或配向膜的評估，也可運用ME-210-T輕松達成。

ME-210-T的高精度膜厚分布資料，定會對優(yōu)良的薄膜產(chǎn)品的生產(chǎn)有的用途。

特點

1，高效的測量速度（每分約1000點：）可短時間內(nèi)取得高密度的面分布數(shù)據(jù)。

2，微小領(lǐng)域量測（20un左右）可簡單鎖定&測量任一微小區(qū)域。

3，可測量透明基板

適用于解析玻璃基板上的極薄膜。

測量實例

涂布膜邊緣擴大測量

可階段性擴大微小領(lǐng)域，然后獲得詳細(xì)的膜厚分布數(shù)據(jù)。

GaAs Wafer 上酸化膜厚的分布測量

縮小膜厚顯示范圍，膜厚差距不大的樣品，也可以簡單評估、比較其分布狀況。

設(shè)備參數(shù)